Зеленоград снова в повестке чипостроения: ЗНТЦ завершил третий этап ОКР по своему литографу для производства микросхем.
Речь про фотолитографическую установку для переноса рисунка на пластины до 200 мм, с нормой 130 нм. Сейчас есть опытный образец, дальше — предварительные испытания и запуск базового техпроцесса. В установке используют эксимерные лазеры 193 нм, как в мировой DUV-литографии.
Для московской микроэлектроники это заметный шаг: без такого оборудования локальное производство чипов не двигается вперед.
IT Москва — t.me/itmoscow_news
IT Москва
@itmoscow_news
Зеленоград снова в повестке чипостроения: ЗНТЦ завершил третий этап ОКР по своему литографу для производства м
Источники:
Этот пост опубликован в Telegram-канале IT Москва. Подписаться можно по ссылке: @itmoscow_news.